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WaveMaster® PRO 2 / PRO2 Wafers 是全自动波前测量系统,配有夏克·哈特曼传感器,用于透镜和光学镜片的串联测试
大量生产小塑料或玻璃镜片,光学窗的质量和效率要求不断提高。在大规模生产中使用波前测量技术可以产生很大的优化能力。 WaveMaster® PRO 2和 PRO 2 Wafers为光学和光学晶圆的系列测试树立了新的标准。典型的测量时间为2秒。每个光学元件可以让托盘和晶圆快速更换。满足在大批量生产中使用的先决条件。关于测量技术。WaveMaster® PRO 2和PRO 2 Wafer通过夏克·哈特曼传感器确定衍生各种参数的波前。然后对每个镜头执行与设计数据的比较。一个非常好的数据池,用于生产中的其他优化。 |
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*测量时间,少于透镜2秒;
*全自动检测大量样本;
*用户可选择“通过/未通过”标准;
*绝对或相对式测量;
*完整的波前分析(PV、RMS、Zernike、PSF、MTF、Strehl);
*两种可行设置:检测球面、非球面元件(透镜或晶圆);
检测平面元件(单表面或晶圆);
*输出所有检测结果;
*可选择:集成能够测量晶圆取向、表面翘度和倾斜的系统;
应用
质量控制:
*球面、非球面元件;
*光学窗口;
*滤光片;
*光学晶圆;
夏克·哈特曼波前传感器相关功能:
*Zernike系数数据;
*导入波前理论数据与测量数据对比;
*通过波前分析确定成像质量(MTF)、材料缺陷、生产错误;
*楔角(可选择);
*EFL(可选择);
在托盘的上的晶片和单透镜的波前测量
WaveMaster®软件控制WaveMaster® 设备进行检测。它具有简明清晰的操作界面,包含所有测量与分析的功能。软件与夏克·哈特曼传感器进行通讯,能够对所有的波前数据进行实时分析。除此之外.WaveMaster® PRO软件含有配合WaveMaster® PRO 2 与WaveMaster® PRO 2 Wafer生产系统的测量模块。
软件优势
*自动通过或失败的结果基于众多可自由选择的标准;
*实时测量和分析;
*显示波前、PV和RMS,强度和实时相机图像;
*Zernink倾斜和散焦系数的波前校正;
*测量区域的可调节性;
*圆形、矩形和椭圆形的测量区域;
*在测量区域编辑器中实时显示相机成像;
*证书保存;
*相机图像平均化;
*用户以不同级别的用户权限登录;
*整个系统是软件控制的;
WaveMaster PRO 2 | 大批量检测单个小镜片 |
WaveMaster PRO 2 Wafer | 检测园晶级镜头 |
球面、非球面光学元件的检测配置 | 点光源 |
平面光学元件的检测配置 | 准直光源 |
样品的通光孔径 |
0.5 mm - 14mm(取决于光学成像) |
EFL | - 12 mm - +50 mm |
单个样品检测时间 |
< 2 s |
时产量 | ≥ 1800 |
托盘样品数 | Max .148 |
托盘更换时间 | 10 s |
托盘更换时间(含校准时间) | < 2 min |
新透镜设计加载时间 | < 5 min |
波长 | 532 nm , 635 nm(其他可升级) |
样品架 | 托盘或晶圆卡盘 |
精度 | < λ / 20(RMS) |
重复率 | < λ / 200(RMS) |
动态范围 | > 2000λ |
检测频率 | 最大12 Hz |
横向分辨率 |
> 138 x 138 微透镜 |