WaveMaster® PRO 2 / PRO2 Wafers 是全自动波前测量系统，配有夏克·哈特曼传感器，用于透镜和光学镜片的串联测试

大量生产小塑料或玻璃镜片，光学窗的质量和效率要求不断提高。在大规模生产中使用波前测量技术可以产生很大的优化能力。     WaveMaster® PRO 2和 PRO 2 Wafers为光学和光学晶圆的系列测试树立了新的标准。典型的测量时间为2秒。每个光学元件可以让托盘和晶圆快速更换。满足在大批量生产中使用的先决条件。关于测量技术。WaveMaster® PRO 2和PRO 2 Wafer通过夏克·哈特曼传感器确定衍生各种参数的波前。然后对每个镜头执行与设计数据的比较。一个非常好的数据池，用于生产中的其他优化。

*测量时间，少于透镜2秒；

*全自动检测大量样本；

*用户可选择“通过/未通过”标准；

*绝对或相对式测量；

*完整的波前分析（PV、RMS、Zernike、PSF、MTF、Strehl）;

*两种可行设置：检测球面、非球面元件（透镜或晶圆）；

                       检测平面元件（单表面或晶圆）；

*输出所有检测结果；

*可选择：集成能够测量晶圆取向、表面翘度和倾斜的系统；

应用

质量控制：

*球面、非球面元件；

*光学窗口；

*滤光片；

*光学晶圆；

夏克·哈特曼波前传感器相关功能：

*Zernike系数数据；

*导入波前理论数据与测量数据对比；

*通过波前分析确定成像质量（MTF）、材料缺陷、生产错误；

*楔角（可选择）；

*EFL（可选择）；

在托盘的上的晶片和单透镜的波前测量

WaveMaster^®软件控制WaveMaster^® 设备进行检测。它具有简明清晰的操作界面，包含所有测量与分析的功能。软件与夏克·哈特曼传感器进行通讯，能够对所有的波前数据进行实时分析。除此之外.WaveMaster^® PRO软件含有配合WaveMaster^® PRO 2 与WaveMaster^® PRO 2 Wafer生产系统的测量模块。

软件优势

*自动通过或失败的结果基于众多可自由选择的标准；

*实时测量和分析；

*显示波前、PV和RMS，强度和实时相机图像；

*Zernink倾斜和散焦系数的波前校正；

*测量区域的可调节性；

*圆形、矩形和椭圆形的测量区域；

*在测量区域编辑器中实时显示相机成像；

*证书保存；

*相机图像平均化；

*用户以不同级别的用户权限登录；

*整个系统是软件控制的；